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中性密度濾光片的損傷分析

2014-09-05 admin1

中性密度濾光片是在K9光學玻璃基底上,鍍不同光密度金屬膜,使其在從可見光到近紅外光區(qū)的寬波段內保持近似相等的能量透過率。來實現(xiàn)對激光的有效吸收.由于損傷閾值較低,嚴重限制了其在高能激光系統(tǒng)中的應用。


實驗研究了較高激光能量密度下濾光片的損傷形貌和損傷機理.損傷形貌的變化特征是:隨著激光能量密度的增加,濾光片先出現(xiàn)損傷點,后以損傷點為中心產生裂紋,且裂紋長度逐漸變長,最終連接成線狀和塊狀,導致大面積的薄膜脫落.建立了缺陷吸收激光能量升溫致中性密度濾光片表面薄膜損傷的模型,計算了薄膜表面的溫度和應力分布,討論了薄膜表面不均勻溫升造成的徑向、環(huán)向和軸向熱應力分布。理論分析顯示:環(huán)向應力是造成溥膜沿徑向產生裂紋的主要原因,當激光能量密度大于約2.2 J/cm2,雜質粒子半徑大于140 nm且相鄰雜質粒子之間的距離小于10 pm時,裂紋才能大量連接起來引起薄膜的大面積脫落。 


 中性密度濾光片的損傷分析


濾光片可以衰減光強度,改變光譜成分或限定振動面,所以被廣泛應用于光學實驗中.但是濾光片在高能激光系統(tǒng)中是極易損傷的,研究它的損傷機理對于提高高能激光系統(tǒng)的性能有重要的意義。

濾光片是鍍膜元件,它的損傷主要集中在膜層。國內外對于雜質誘導薄膜損傷的理論研究有很多,基于雜質吸收的熱機械過程,薄膜的損傷概率與雜質密度、雜質尺寸、雜質填埋深度、激光功率密度、薄膜厚度都有一定的關系。以雜質粒子強吸收和熱輻射模型為基礎,結合熱傳導方程、熱彈性方程等研究發(fā)現(xiàn)雜質粒子誘導薄膜損傷過程中薄膜出現(xiàn)了塊狀、環(huán)狀和坑狀損傷,損傷的大小與激光能量密度和雜質填滿深度等有關。


以上的研究工作主要集中在激光作用于薄膜引起的薄膜層裂,而對薄膜表面的徑向裂紋和徑向裂紋連接起來引起的薄膜脫落,報道較少,因比對該問題的研究是很有必要的。 


本文對中性密度濾光片的損傷形貌及其演化過程進行了觀測,分析強吸收雜質粒子對薄膜損傷的誘導作用,討論了激光能量密度、雜質粒子的尺寸和分布密度對濾光片損傷的影響。

 

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